說明：
DVIO-MO系列主動隔振光學平臺為韓國 DAEIL（大一）株式會社生產的主動隔振光學平臺，由臺面和主動隔振支撐兩部分組成。
臺面采用真蜂窩三層夾心式結構，上臺面為 430 系列高導磁不銹鋼，臺面按照25mmX25mm 孔距均布 M6 螺紋孔，方便安裝儀器，每個螺紋孔下方具有獨立的隔離杯，方便清潔。中間是真蜂窩支撐結構，是把 0.25 毫米厚度的鋼板加工成蜂巢的結構，增加了臺面結構的密度，減小體積，采用先進的粘合工藝，堅固耐用。臺面的底部和側板用鋼板作為主體材料，具有非常好的動態和靜態的剛性。
主動隔振支撐部分主要包括了被動隔振機構和主動隔振器 DVIA-M，每個支撐里面一般會有 4 個 DVIA-M 系列主動隔振器和一臺主控箱。主動隔振器包含了采集信號的傳感器和消除振動的驅動器，主要消除 0.5-10Hz 的外部振動 , 被動隔振系統部分同時承擔著支撐負載和隔絕高頻率振動的作用。
這個系列的平臺可以在低頻范圍（0.5-10Hz）提供非常好隔振性能，它可以應用于很多對振動要求非常高，甚至具有挑戰的領域，比如高分辨率的光譜儀、高分辨率電子顯微鏡和精密納米科學研究和制備等。

DVIO-MO系列主動隔振光學平臺特點：
• 具有非常好的隔振性能，特別是在低頻2Hz-10Hz達到90%以上的隔振效率。
• 采用慣性傳感器，可以檢測出六個自由度的振動，并做補償。
• 采用真蜂窩三層夾心式結構臺面，厚度可選100/200/300mm。
• 進口精密主動隔振光學平臺。
• 隔振性能優異，廣泛應用于掃描探針顯微鏡，原子力顯微鏡，掃面隧道顯微鏡，激光干涉儀 ，半導體檢測設備，三維形貌分析儀和激光共聚焦顯微鏡等。

主動隔振光學平臺技術指標：
• 隔振頻率：0.5~100Hz
• 自動平衡，響應時間短，平衡速度快
• 鋼蜂巢內核：鋼制蜂窩芯，鋼板厚度0.25mm,每個蜂巢面積3.2cm²
• 表面平整度：±0.1mm /600mm×600mm
• 臺面：4.0mm厚度430 系列高導磁不銹鋼
• 底面：4.0mm厚鋼板，表面氧化處理

邊墻板：2.0mm厚鋼板，包裹高阻尼聚乙烯材料
• 孔徑： M6 (英制螺孔可選)
• 孔距：25mmX25mm(英制孔距可選)，最外邊孔距平臺邊緣
37.5mm
• 螺孔密封：每個螺紋孔下方設有柱形隔離杯密封，方便清潔
• 阻尼隔振方式：寬帶阻尼
選型表：